常溫下，硅單晶在純HF中的腐蝕速度很小，但復在純HF中加一滴HNO3，腐蝕速度會大大增加。我做硅料酸洗的，我們的酸就制是HNO3和HF的混合酸。在這個過程中，參與反應的不是硅本身，而是硅表百面的金屬雜質。涉及到電化學腐蝕的知識度。通常用的非擇優(yōu)腐蝕劑的配方為:HF(40-42%):HNO3(65%)=1:2.5它們的化學反應過程為:Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O。